商品番号。:
TOB-VHPF-LAB注文(moq):
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XIAMENリード タイム:
7days真空条件下での材料ホットプレス焼結プロセス用の高温真空炉
仕様書
この真空炉は、機能性セラミックス、光学材料、複合材料、硬質合金、高温条件下での粉末冶金材料のホットプレス焼結プロセスで広く使用されているサイクル運転タイプであり、充電保護状況のあるホットフォーミング焼結でも使用できます。
モデル |
真空ホットプレス炉tob-vhpf-lab |
限られた冷真空度 |
5×10﹣3pa |
加熱温度 |
2000℃、制御精度±1℃ |
温度制御モード |
タングステンライ熱電対+赤外線機器 |
パワー |
25kw |
動作電圧 |
0-30v |
圧力 |
10トン |
圧力ヘッド直径 |
85mm |
ヘッド変位精度 |
0.02mm |
圧力ヘッドストローク |
100mm |
チューブ寸法 |
Ф80×120mm |
圧力上昇率 |
≤2pa/ h |
インフレ圧力 |
< 0.05mpa(n2またはar) |
保証 |
生涯サポート付きの1年間の限定保証 |
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