真空炉

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真空焼結炉
実験室の粉末材料研究のための高温真空焼結炉仕様書この真空焼結炉は、高温条件下で機能性セラミックス、光学材料、複合材料、硬質合金、粉末冶金材料焼結処理で広く使用されているサイクル運転タイプであり、充電保護状況で焼結物を形成する際にも使用できます。モデル真空焼結チューブ炉tob-vctf-lab 限られた冷真空度 5×10﹣3pa 加熱温度 2000℃、制御精度±1℃ 温度制御モードタングステンライ熱電対+赤外線機器パワー 25kw チューブ寸法 Ф80×120mm 圧力上昇率 ≤2pa/ h 電圧単相380v、50hz インフレ圧力＆lt; 0.03mpa（n2またはar）保証生涯サポート付きの1年間の限定保証 Eメール： tob.amy@tobmachine.com スカイプ： amywangbest86 whatsapp /電話番号： +86181 2071 5609

タグ : 真空焼結炉真空炉真空まっ砂鉄
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1200℃急速加熱炉
1200℃急速加熱炉

タグ : ラボチューブ炉チューブ炉炉アニーリング炉ラピッドアニーリング管状炉
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1400度真空管炉
この炉は、発熱体としてシリコンカーボンロッドを使用し、二重層シェル構造と31段階のプログラム温度制御システム、位相シフトトリガー、サイリスタ制御、炉の高品質高純度アルミナファイバー、真空成形ファイバーポリライトボード材料を採用しています。

タグ : 管状炉高温炉真空管炉実験室の管状炉
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高温真空モリブデン炉
モリブデン真空ベルト炉は、実験室、産業および鉱業企業で広く使用されており、予備実験の科学的研究単位。

タグ : 真空モリブデン炉真空炉高温炉
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3つのゾーン1700℃CVD真空管状炉
炉は発熱体としてシリコンモリブデン棒を使用し、二層シェル構造と31セクションプログラム温度制御システム、位相シフトトリガーとシリコン制御制御を採用し、炉はアルミナセラミックファイバー、真空成形ファイバーライトプレート材料を採用しています。

タグ : CVD炉 3つのゾーン管状炉 3つのゾーンの炉
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3つの加熱ゾーンの管状炉
この TOB-G1100-250-III 3 つの加熱ゾーン管状炉は、発熱体として抵抗線を採用し、二重層シェル構造と 30 セクションプログラム温度制御システム、位相シフトトリガーとサイリスター制御を採用しています。炉は完全に輸入された高純度アルミナファイバー、真空成形ファイバー、ライトプレート材料を採用しています。二重炉構造を採用。この炉は、バランスの取れた温度場、低い表面温度、速い温度上昇および下降速度、省エネなどの利点があります。

タグ : 3つの加熱ゾーンの管状炉
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真空井戸型熱処理炉
1100°真空ピット炉 - 大気周囲加熱このシリーズの装置の制御システムは、大気による真空引きを特徴としており、高等教育機関、研究機関、工業・鉱業などの実験や小規模生産に広く使用されています。

タグ : 井戸型炉熱処理炉ピット炉
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