熱処理炉

真空条件下での材料ホットプレス焼結プロセス用の高温真空炉 仕様書 この真空炉は、機能性セラミックス、光学材料、複合材料、硬質合金、高温条件下での粉末冶金材料のホットプレス焼結プロセスで広く使用されているサイクル運転タイプであり、充電保護状況のあるホットフォーミング焼結でも使用できます。 モデル 真空ホットプレス炉tob-vhpf-lab 限られた冷真空度 5×10﹣3pa 加熱温度 2000℃、制御精度±1℃ 温度制御モード タングステンライ熱電対+赤外線機器 パワー 25kw 動作電圧 0-30v 圧力 10トン 圧力ヘッド直径 85mm ヘッド変位精度 0.02mm 圧力ヘッドストローク 100mm チューブ寸法 Ф80×120mm 圧力上昇率 ≤2pa/ h インフレ圧力 ＆lt; 0.05mpa（n2またはar） 保証 生涯サポート付きの1年間の限定保証 Eメール ： tob.amy@tobmachine.com スカイプ： amywangbest86 whatsapp /電話番号： +86181 2071 5609

1100°真空ピット炉 - 大気周囲加熱 このシリーズの装置の制御システムは、大気による真空引きを特徴としており、高等教育機関、研究機関、工業・鉱業などの実験や小規模生産に広く使用されています。