高温炉
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1200℃高温チューブ炉主な用途:セラミック、冶金、エレクトロニクス、ガラス、化学薬品、機械、耐火材料、特殊材料、建築材料、大学、研究機関、産業および鉱業企業が粉末焙焼、セラミック焼結、高 温度実験、材料加工、質の高い大学、研究機関、産業および鉱業企業は、高温雰囲気焼結、雰囲気低減、cvd実験、真空焼きなましなどを行います。続きを読む -
1200℃高温管状炉この1200℃の高温管状炉は、セラミック、冶金、エレクトロニクス、ガラス、化学工業、機械、耐火物、特殊材料、建材、大学、科学研究機関、粉体焙煎、セラミック焼結、高温の産業および鉱業企業に主に使用されています。・温度実験、材料処理、高温雰囲気焼結、セラミックグルー排出、排ガス処理、焼鈍・焼結など続きを読む -
3つの加熱ゾーンの管状炉この TOB-G1100-250-III 3 つの加熱ゾーン管状炉は、発熱体として抵抗線を採用し、二重層シェル構造と 30 セクション プログラム温度制御システム、位相シフト トリガーとサイリスター制御を採用しています。炉は完全に輸入された高純度アルミナファイバー、真空成形ファイバー、ライトプレート材料を採用しています。二重炉構造を採用。この炉は、バランスの取れた温度場、低い表面温度、速い温度上昇および下降速度、省エネなどの利点があります。続きを読む -
インテリジェントピット式抵抗炉1100℃ウェル型抵抗炉 周囲加熱 当社の高温炉は、工業および鉱山企業、大学、科学研究部門の研究室で、化学元素分析や小型鋼部品の焼き入れ、焼きなまし、焼き戻しなどの高温熱処理に使用できます。焼結にも使用でき、溶解や分析などの高温加熱にも使用されます。続きを読む -
高温真空チャンバー雰囲気炉このTOB-Q1100-504040雰囲気炉は、シリコンモリブデン棒を発熱体として使用し、二重シェル構造と30段階プログラム温度制御システム、位相シフトトリガー、サイリスタ制御、炉の高品質高純度アルミナ繊維、真空成形繊維ポリライトボード材料を使用しています。二重炉構造が採用されています。この炉は、温度場のバランス、表面温度の低さ、温度上昇と下降の速さ、省エネなどの利点があります。続きを読む
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