1100℃セラミック脱脂炉 この製品は、工業および鉱業企業、大学、科学研究機関の研究室での化学元素分析および小型鋼部品の焼き入れ、焼きなまし、焼き戻しなどの高温熱処理のために特別に設計されています。金属、石材、セラミックスの焼結、溶解、分析などの高温加熱にも使用できます。

1400室の炉

1100チャンバー炉ミニ

1600室の炉 仕様書 モデル tob-dsp-kf1600-i tob-dsp-kf1600-ii tob-dsp-kf1600-iii tob-dsp-kf1600-iv tob-dsp-kf1600-vi tob-dsp-kf1600-vi tob-dsp-kf1600-vii パワー 3 kw 5kw 7kw 9kw 12kw 21kw 65kw 炉管サイズ（mm） 160x150x150 200x200x200 300x200x200 300x250x250 400x300x300 500x400x400 1200x600x600 寸法 510x490x780 560x550x850 560x630x850 610x630x930 660x730x1340 910x900x1500 1670x1180x1500 電源電圧 220v 380v フェーズ番号 単相 3相 発熱体 1700型シリコンモリブデン棒 温度制御モード 一。ユディアン温度制御 30セクションでは、pid温度調節のみを使用できます。 二.fp93温度制御（日本から） （追加料金で輸入楽器を交換します） 1,40セクションプログラムの温度制御は、4,2,1グループプログラムに分割できます。 プログラムが4つのグループに分割されている場合、各プログラムセグメント 10、 2,6グループのpidコントロール、低温、中温、高温のそれぞれにpidのセットがあり、 各セグメントが温度を制御できるように非常に正確です。 制御精度 +/- 1℃ 加熱速度 ≤30℃/分 推奨加熱速度 15℃/分 最高温度 1600℃ 定格温度 1550℃ 周囲の表面温度 ≤35℃ 熱電対タイプ タイプB 引き金 1.フェーズトリガー（ソフトスタートおよび電流制限機能付き） 2.電流制限機能：加熱時間の調整方法に関係なく、 ポストを通る炉の変圧器の2次電流は160aに制限されています。 機器の保護が制限されているため、操作方法に関係なく、デバイスは燃えません。 3.ソフトスタート機能：電源電流がゆっくり増加するとき、 発熱体への影響は小さく、発熱体の寿命を延ばすのに役立ちます scr 106 / 16Eドイツセミクロン 認証 ce Eメール ： tob.amy@tobmachine.com スカイプ： amywangbest86 whatsapp /電話番号： +86181 2071 5609

tob-kbf1600モデル炉islaboratory高温マッフル炉は、加熱要素として1800タイプのシリコンモリブデン棒を採用し、ダブルシェル構造と40プログラム温度制御システム、電気位相シフトトリガー、サイリスタ制御、多結晶アルミナ繊維材料を使用した炉室、二重層を使用炉のシェルには、空冷システムが装備されており、温度をすばやく上げ下げできます。

tob-kbf1700度マッフル炉は、加熱要素として1800型シリコンモリブデンロッドを採用し、ダブルシェル構造と40プログラム温度制御システム、電気位相シフトトリガー、サイリスタ制御を使用し、多結晶アルミナ繊維材料を使用した炉室、炉シェル間の二重層は急速に温度を上げ下げするための空冷システムを装備。

TOB-MF1200マッフル炉は、主に電池材料などの粉末材料やセラミック焼結研究に使用される1200℃の実験用マッフル炉です.。

tob-kbf1100モデルミニマッフル炉は、発熱体として電気抵抗線を採用し、ダブルシェル構造と40プログラム温度制御システムを使用し、電気位相シフトトリガー、サイリスタ制御、多結晶アルミナ繊維材料を使用した炉室、炉シェル間の二重層には空気が装備されています冷却システム、急速に温度を上げ下げするため。 （20分以内に1000℃まで）

tob-kbf1400モデル小型マッフル炉は、発熱体として炭化ケイ素を採用し、ダブルシェル構造と40プログラム温度制御システム、電気位相シフトトリガー、サイリスタ制御を使用し、1600型多結晶アルミナ繊維材料を使用した炉室、炉シェル間の二重層を装備急速に温度を上げ下げする空冷システム。

1100の高温チャンバー炉

高純度セラミック繊維断熱（省エネ30％、旧炉より約30％軽量）。炉の表面が50℃未満になるように、ファン冷却を備えた二重層スチールケーシング。完璧なシーリング炉のドアと簡単に開きます。

高温チャンバー炉

1200℃スライダー型デュアルゾーンpecvdシステム

真空条件下での材料ホットプレス焼結プロセス用の高温真空炉 仕様書 この真空炉は、機能性セラミックス、光学材料、複合材料、硬質合金、高温条件下での粉末冶金材料のホットプレス焼結プロセスで広く使用されているサイクル運転タイプであり、充電保護状況のあるホットフォーミング焼結でも使用できます。 モデル 真空ホットプレス炉tob-vhpf-lab 限られた冷真空度 5×10﹣3pa 加熱温度 2000℃、制御精度±1℃ 温度制御モード タングステンライ熱電対+赤外線機器 パワー 25kw 動作電圧 0-30v 圧力 10トン 圧力ヘッド直径 85mm ヘッド変位精度 0.02mm 圧力ヘッドストローク 100mm チューブ寸法 Ф80×120mm 圧力上昇率 ≤2pa/ h インフレ圧力 ＆lt; 0.05mpa（n2またはar） 保証 生涯サポート付きの1年間の限定保証 Eメール ： tob.amy@tobmachine.com スカイプ： amywangbest86 whatsapp /電話番号： +86181 2071 5609

実験室の粉末材料研究のための高温真空焼結炉 仕様書 この真空焼結炉は、高温条件下で機能性セラミックス、光学材料、複合材料、硬質合金、粉末冶金材料焼結処理で広く使用されているサイクル運転タイプであり、充電保護状況で焼結物を形成する際にも使用できます。 モデル 真空焼結チューブ炉tob-vctf-lab 限られた冷真空度 5×10﹣3pa 加熱温度 2000℃、制御精度±1℃ 温度制御モード タングステンライ熱電対+赤外線機器 パワー 25kw チューブ寸法 Ф80×120mm 圧力上昇率 ≤2pa/ h 電圧 単相380v、50hz インフレ圧力 ＆lt; 0.03mpa（n2またはar） 保証 生涯サポート付きの1年間の限定保証 Eメール ： tob.amy@tobmachine.com スカイプ： amywangbest86 whatsapp /電話番号： +86181 2071 5609

1100℃ウェル型抵抗炉 周囲加熱 当社の高温炉は、工業および鉱山企業、大学、科学研究部門の研究室で、化学元素分析や小型鋼部品の焼き入れ、焼きなまし、焼き戻しなどの高温熱処理に使用できます。焼結にも使用でき、溶解や分析などの高温加熱にも使用されます。

1100°真空ピット炉 - 大気周囲加熱 このシリーズの装置の制御システムは、大気による真空引きを特徴としており、高等教育機関、研究機関、工業・鉱業などの実験や小規模生産に広く使用されています。